发明名称 |
晶圆清洗装置以及化学机械研磨设备 |
摘要 |
本实用新型提供一种晶圆清洗装置以及化学机械研磨设备,所述晶圆清洗装置包括主管道、第一支管道、第二支管道、第一清洗液输送管和第二清洗液输送管;所述第一支管道的一端与主管道转动连接,且与主管道相通,所述第一支管道的另一端设有软刷式喷头;所述第二支管道的一端与主管道转动连接,且与主管道相通;所述第一清洗液输送管设置在第一支管道及主管道内,所述第一清洗液输送管的一端与软刷式喷头连接;所述第二清洗液输送管设置在第二支管道及主管道内,在所述第二支管道内的一段第二清洗液输送管上设有多个喷嘴,所述多个喷嘴穿过第二支管道伸出第二支管道外。所述晶圆清洗装置可对晶圆进行充分清洗,且不损伤晶圆。 |
申请公布号 |
CN202174489U |
申请公布日期 |
2012.03.28 |
申请号 |
CN201120294010.2 |
申请日期 |
2011.08.12 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
陈枫 |
分类号 |
B24B37/34(2012.01)I |
主分类号 |
B24B37/34(2012.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种晶圆清洗装置,其特征在于,包括主管道、第一支管道、第二支管道、第一清洗液输送管和第二清洗液输送管;其中,所述第一支管道的一端与所述主管道转动连接,且与所述主管道相通,所述第一支管道的另一端设有软刷式喷头;所述第二支管道的一端与所述主管道转动连接,且与所述主管道相通;所述第一清洗液输送管设置在所述第一支管道及主管道内,所述第一清洗液输送管的一端与所述软刷式喷头连接;所述第二清洗液输送管设置在所述第二支管道及主管道内,在所述第二支管道内的一段第二清洗液输送管上设有多个喷嘴,所述多个喷嘴穿过所述第二支管道伸出所述第二支管道外。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |