| 发明名称 | 辐射屏蔽装置以及辐照系统 | ||
| 摘要 | 一种辐射屏蔽装置，包括：由屏蔽墙形成的空间，辐射源设置在所述空间中；形成在所述屏蔽墙中的开口；以及陷阱(2)，该陷阱(2)通过屏蔽墙的部分向外凸起而形成，通过陷阱(2)的屏蔽墙，增加辐射源产生的射线到达开口处在空间内由屏蔽墙散射的次数。本发明利用带陷阱的紧凑型迷宫结构进行辐射屏蔽与防护，迷宫墙和陷阱对辐射源产生的透射射线和在射线传递过程中产生的散射射线进行有效屏蔽和快速衰减，以实现迷宫屏蔽装置外围边界的辐射水平满足设计要求；在合适的位置设计一定形状的喉板可以减小射线的散射面积，进一步降低泄漏出去的辐射水平；带陷阱的紧凑型迷宫结构占地面积小，防护成本低，能实现辐照系统连续、快速工作的需求。 | ||
| 申请公布号 | CN101740155B | 申请公布日期 | 2012.03.28 |
| 申请号 | CN200810226668.2 | 申请日期 | 2008.11.19 |
| 申请人 | 同方威视技术股份有限公司 | 发明人 | 黄铭;邓艳丽;曹艳峰;侯利娜;朱国平 |
| 分类号 | G21F7/00(2006.01)I;G21F7/005(2006.01)I;G21K5/00(2006.01)I | 主分类号 | G21F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王新华 |
| 主权项 | 一种辐射屏蔽装置，包括：由屏蔽墙形成的空间，辐射源设置在所述空间中；形成在所述屏蔽墙中的开口；以及陷阱(2)，该陷阱(2)通过屏蔽墙的部分向外凸起而形成，通过陷阱(2)的屏蔽墙，增加辐射源产生的射线到达开口处在空间内由屏蔽墙散射的次数。 | ||
| 地址 | 100084 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层 | ||