| 摘要 |
본 발명은 염화수소의 접촉 기체상 산화에 의해 염소를 제조하는 방법에 관한 것이고, 이는 a) 염화수소를 포함하는 공급 기체 스트림 I 및 산소를 포함하는 공급 기체 스트림 II를 제공하는 단계; b) 제1의 산화 단계에서, 공급 기체 스트림 I, 공급 기체 스트림 II, 필요에 따라 염화수소를 포함하는 재순환 스트림 Ia 및 필요에 따라 산소를 함유하는 재순환 스트림 IIa를 제1의 산화 구역에 공급하고 이들을 제1의 산화 촉매와 접촉시켜, 염화수소의 제1의 부분량을 염소로 산화시키고, 염소, 미반응 산소, 미반응 염화수소 및 수증기를 포함하는 기체 스트림 III을 수득하는 단계; c) 제2의 산화 단계에서, 기체 스트림 III을 제2의 산화 구역에 공급하고 이를 하나 이상의 추가의 산화 촉매와 접촉시켜, 염화수소의 제2의 부분량을 염소로 산화시키고, 염소, 미반응 산소, 미반응 염화수소 및 수증기를 포함하는 생성물 기체 스트림 IV를 수득하는 단계; d) 염소, 필요에 따라 재순환 스트림 Ia 및 필요에 따라 재순환 스트림 IIa를 생성물 기체 스트림 IV로부터 분리하는 단계 의 단계를 포함하며, 여기서 제1의 산화 구역 내의 제1의 산화 촉매는 유동층 내에 존재하고, 제2의 산화 구역 내의 추가의 산화 촉매 또는 촉매들은 고정층 내에 존재한다. |
