发明名称 用于正光阻之混合溶剂系统
摘要 一种适用 为光阻的感光性正感光组合物,其包含至少一种不溶于水,可溶于硷性水溶液,可形成薄膜的酚醛清漆树脂的混合物:至少一种邻-重氮光敏剂,和包含丙二醇烷基醚醋酸酯和3-甲基-3-甲氧基丁醇的光阻溶剂混合物,以及制造此组合物的程序。
申请公布号 TW412664 申请公布日期 2000.11.21
申请号 TW085114949 申请日期 1996.12.04
申请人 克瑞特财力(BVI)有限公司 发明人 史坦利F.瓦那特;M.丹里尔瑞曼;丹尼曲N.卡那;丹尼尔P.奥宾;桑尼特S.迪克斯特
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种感光性正光阻组合物,其基本上包括含15%至99%(以组合物固体部份之重量为基准)之至少一种不溶于水,可溶于硷性水溶液,可形成薄膜的酚醛清漆树脂的混合物;1%至85%(以组合物固体部份之重量为基准)之至少一种邻-重氮光敏剂,和40%至90%(以感光性组合物总重为基准)之光阻溶剂组合物,其基本上包含丙二醇烷基醚醋酸酯和3-甲基-3-甲氧基丁醇的光阻溶剂混合物,其中溶剂基本上包括40%至60%重量之3-甲基-3-甲氧基-丁醇及60%至40%重量之丙二醇烷基醚醋酸酯。2.根据申请专利范围第1项之组合物,其中该丙二醇烷基醚醋酸酯成份为丙二醇甲基醚醋酸酯。3.根据申请专利范围第1项之组合物,其进一步包含一种或多种选自下列的添加物:着色剂、抗成纹剂、塑化剂、黏性促进剂、加速剂、溶剂和界面活性剂。4.根据申请专利范围第1项之组合物,其中该重氮成份包含一种或多种选自重氮磺醯氯与羟基或聚羟基芳香基化合物、芳香基胺或聚胺的反应产物之化合物。5.根据申请专利范围第1项之组合物,其中该光敏剂是2,3,4-三羟基苯酮与-(1,2)-二叠氮化物-5-磺醯氯所形成45%酯化程度的缩合产物。6.一种感光元件,其包含一种基质和配置于该基质上之根据申请专利范围第1项的组合物。7.根据申请专利范围第6项之元件,其中该基质包含一种或多种选自下列的成份:矽、铝、聚合树脂、二氧化矽、含添加剂的二氧化矽、氮矽化物、钽、铜、聚矽、陶磁和铝/铜混合物。8.一种制造正光阻组合物的方法,其包括形成15%至99%(以组合物固体部份之重量为基准)之一种含至少一种不溶于水,可溶于硷性水溶液,可形成薄膜的酚醛清漆树脂混合物;1%至85%(以组合物固体部份之重量为基准)之至少一种邻-重氮光敏剂,和40%至90%(以感光性组合物总重为基准)之光阻溶剂组合物,其基本上包含丙二醇烷基醚醋酸酯和3-甲基-3-甲氧基丁醇的光阻溶剂混合物,其中溶剂基本上包括40%至60%重量之3-甲基-3-甲氧基-丁醇及60%至40%重量之丙二醇烷基醚醋酸酯。9.根据申请专利范围第8项之方法,其中该丙二醇烷基醚醋酸酯为丙二醇甲基醚醋酸酯。10.根据申请专利范围第8项之方法,其进一步包含一种或多种选自下列的添加物:着色剂、抗成纹剂、塑化剂、黏性促进剂、加速剂、溶剂和界面活性剂。11.根据申请专利范围第8项之方法,其中该酚醛清漆树脂的含量占该组合份的重量5%至40%。12.根据申请专利范围第8项之方法,其中该重氮的含量占组合份中固体部份重量5%至35%。13.根据申请专利范围第8项之方法,其中该重氮成份包含一种或多种选自重氮磺醯氯与羟基或聚羟基芳香基化合物、芳香基胺或聚胺的反应产物之化合物。14.根据申请专利范围第8项之方法,其中该光敏剂是2,3,4-三羟基苯酮与-(1,2)-二叠氮化物-5-磺醯氯形成45%酯化程度的缩合产物。
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