| 发明名称 | 刻蚀终点动态检测方法 | ||
| 摘要 | 一种刻蚀终点动态检测方法，包括：获取从刻蚀开始至刻蚀完成的实时光信号的强度，其中，从刻蚀开始至刻蚀完成包括延迟时间段、稳定刻蚀时间段和刻蚀终点判断时间段，所述特定波长光信号的强度与刻蚀腔体内的特定刻蚀气体活性组分浓度或产物浓度对应；提供预设的延迟时间段参考阈值；搜索延迟时间段内的实时光信号强度的拐点，若在所述延迟时间段内搜索到拐点，则进入稳定刻蚀时间段，若在所述预设的延迟时间段内无拐点，则在到达参考阈值后进入稳定刻蚀时间段。本发明提供的延迟时间方法精确度高。 | ||
| 申请公布号 | CN102347197A | 申请公布日期 | 2012.02.08 |
| 申请号 | CN201110339025.0 | 申请日期 | 2011.10.31 |
| 申请人 | 中微半导体设备（上海）有限公司 | 发明人 | 王兆祥;黄智林;李俊良;杜若昕 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 骆苏华 |
| 主权项 | 一种刻蚀终点动态检测方法，其特征在于，包括：获取从刻蚀开始至刻蚀完成的实时光信号的强度，其中，从刻蚀开始至刻蚀完成包括延迟时间段、稳定刻蚀时间段和刻蚀终点判断时间段，所述特定波长光信号的强度与刻蚀腔体内的特定刻蚀气体活性组分浓度或产物浓度对应；提供预设的延迟时间段参考阈值；搜索延迟时间段内的实时光信号强度的拐点，若在所述延迟时间段内搜索到拐点，则进入稳定刻蚀时间段，若在所述预设的延迟时间段内无拐点，则在到达参考阈值后进入稳定刻蚀时间段。 | ||
| 地址 | 201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号 | ||