发明名称 |
用于显影装置的显影液喷头的清洗装置和清洗方法 |
摘要 |
本发明提供一种用于显影装置的显影液喷头的清洗装置和清洗方法。所述清洗装置包括分别位于所述显影装置两侧的第一清洗部和第二清洗部,其中,第一清洗部用于容纳酸性液体,第二清洗部用于容纳去离子水。所述清洗方法包括判断显影液喷头的喷涂是否为二次喷涂;如果是二次喷涂,将显影液喷头置于所述第一清洗部中进行清洗,否则,将显影液喷头置于第二清洗部中进行清洗。利用本发明的清洗装置和清洗方法,能使粘附在显影液喷头上的杂质充分溶解在清洗液中,达到有效清洗显影液喷头的目的,进而提高晶圆的成品率;再次,利用本发明的清洗方法不会因添加二氧化碳而在被清洗的喷头表面产生新的污染物,从而保证了整套工艺的安全性。 |
申请公布号 |
CN102345138A |
申请公布日期 |
2012.02.08 |
申请号 |
CN201010245489.0 |
申请日期 |
2010.07.30 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
安辉;高俊涛 |
分类号 |
C23G3/00(2006.01)I;C23G1/02(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I |
主分类号 |
C23G3/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市磐华律师事务所 11336 |
代理人 |
董巍;徐丁峰 |
主权项 |
一种用于显影装置的显影液喷头的清洗装置,其特征在于,所述清洗装置包括分别位于所述显影装置两侧的第一清洗部和第二清洗部,其中,所述第一清洗部用于容纳酸性液体,所述第二清洗部用于容纳去离子水。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |