发明名称 Substratstage, Substrat-Prozessierungs-Vorichtung und Substrat-Prozessierungs-System
摘要 <p>Eine Substratbühne zur Anbringung eines Substrats umfasst ein umfängliches Bühnenelement, auf dem ein umfänglicher Substratabschnitt des Substrats angebracht werden kann, wobei das umfängliche Bühnenelement eine Temperatur des umfänglichen Substratabschnitts steuert, ein mittleres Bühnenelement, auf dem ein mittlerer Substratabschnitt des Substrats angebracht werden kann, wobei das mittlere Bühnenelement eine Temperatur des mittleren Substratabschnitts steuert, und eine Haltebasis, die das umfängliche Bühnenelement und das mittlere Bühnenelement hält. Zwischen dem umfänglichen Bühnenelement und dem mittleren Bühnenelement ist ein Zwischenraum gebildet, um das umfängliche Bühnenelement und das mittlere Bühnenelement davon abzuhalten, miteinander in Kontakt zu gelangen.</p>
申请公布号 DE102011108632(A1) 申请公布日期 2012.01.26
申请号 DE201110108632 申请日期 2011.06.30
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 FUJIHARA, JIN;MURAKI, YUSUKE;ODAGIRI, MASAYA
分类号 H01J37/20;C23C14/50;C23C16/458;H01J37/317 主分类号 H01J37/20
代理机构 代理人
主权项
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