| 发明名称 | 包括高长宽比分子结构的结构和制造方法 | ||
| 摘要 | 包括高长宽比分子结构(HARM结构)的结构，其中该结构包括HARM结构的基本上平面的网(2)和与网(2)接触的支撑物(3)。支撑物(3)在其中具有开口(5)，在开口(5)的边缘区域(4)处，网(2)与支撑物(3)接触，使得网(2)的中间部分不被支撑物(3)所支撑。网(2)包括基本上无规取向的HARM结构。 | ||
| 申请公布号 | CN102300706A | 申请公布日期 | 2011.12.28 |
| 申请号 | CN201080005707.1 | 申请日期 | 2010.01.27 |
| 申请人 | 凯纳图公司 | 发明人 | D·P·布朗;B·J·艾吉森;A·G·纳斯布林;E·I·考品恩 |
| 分类号 | B32B5/08(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H05K3/20(2006.01)I | 主分类号 | B32B5/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人 | 赵蓉民;张全信 |
| 主权项 | 一种包括高长宽比分子结构(HARM结构)的结构，其中所述结构包括HARM结构的基本上平面的网(2)和与所述网(2)接触的支撑物(3)，其特征在于，所述支撑物(3)在其中具有开口(5)，在所述开口(5)的边缘区域(4)处，所述网(2)与所述支撑物(3)接触，使得所述网(2)的中间部分不被所述支撑物(3)所支撑，并且所述网(2)包括基本上无规取向的HARM结构。 | ||
| 地址 | 芬兰赫尔辛基 | ||