| 发明名称 | 聚脲膜及其成膜方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于，通过真空蒸镀聚合法在树脂成型品基材上形成透明性、耐光性和批量生产性优异的聚脲膜。该聚脲膜是由芳香族烷基、脂环状或脂肪族二异氰酸酯单体与芳香族烷基、脂环状或脂肪族二胺单体真空蒸镀聚合而得到的，其中，所述二异氰酸酯单体和所述二胺单体选自从基材上脱离所需要的活化能的差为10kJ以下的关系的单体。 | ||
| 申请公布号 | CN101631889B | 申请公布日期 | 2011.12.28 |
| 申请号 | CN200880007921.3 | 申请日期 | 2008.04.01 |
| 申请人 | 株式会社爱发科;小岛压力加工工业株式会社 | 发明人 | 入仓钢;大森大辅;野口真淑 |
| 分类号 | C23C14/12(2006.01)I;C08G18/08(2006.01)I;C08G18/32(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 贾成功 |
| 主权项 | 一种聚脲膜，其是由芳香族烷基、脂环状或脂肪族的二异氰酸酯单体与芳香族烷基、脂环状或脂肪族的二胺单体的真空蒸镀聚合而得到的聚脲膜，其特征在于，所述二异氰酸酯单体和所述二胺单体为从基材上脱离所需要的活化能的差为10kJ以下的关系的单体。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||