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发明名称 Niederdruck-Entfernung von Photoresist und Ätzresten
摘要
申请公布号 DE112005003338(B8) 申请公布日期 2011.12.15
申请号 DE200511003338T 申请日期 2005.12.01
申请人 TOKYO ELECTRON LTD. 发明人 INAZAWA, KOICHIRO;BALASUBRAMANIAM, VAIDYANATHAN;HAGIHARA, MASAAKI;NISHIMURA, EIICHI
分类号 H01L21/3065;H01L21/302;H01L21/311 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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