| 发明名称 | 曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种曝光装置和曝光方法以及器件制造方法，其中，曝光装置(EX)具备：可保持基片(P)并进行移动的基片台(PST)，检测基片台(PST)所保持的基片(P)上的对准标记1，并且检测被设置于基片台(PST)的基准标记(PFM)的基片对准系统(5)；以及经由投影光学系统(PL)检测被设置于基片台(PST)的基准标记(MFM)的掩模对准系统(6)。使用基片对准系统(5)无液体地检测被设置于基片台(PST)的基准标记(PFM)，并且使用掩模对准系统(6)经由投影光学系统(PL)和液体(LQ)检测被设置于基片台(PST)的基准标记(MFM)，以求得基片对准系统(5)的检测基准位置与图案像的投影位置的位置关系。这样就能够在浸液曝光中精确地进行对准处理。 | ||
| 申请公布号 | CN101510059B | 申请公布日期 | 2011.12.07 |
| 申请号 | CN200910129713.7 | 申请日期 | 2004.10.12 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 安田雅彦;正田隆博;金谷有步;长山匡;白石健一 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 金春实 |
| 主权项 | 一种经由液体将曝光光照射到基片上，由此来曝光上述基片的曝光装置，其特征在于具备：将图案像投影到基片上的投影光学系统；具有向上述基片上供给液体的供给口以及回收液体的回收口之中至少某一方的喷嘴部件；具有保持上述基片的基片架，在上述基片架上保持上述基片并可移动的基片台；检测在上述基片架上是否保持着上述基片或者虚设基片的检测器；以及依照上述检测器的检测结果来变更上述基片台的可动区域的控制装置，在上述检测器未检测出上述基片或者上述虚设基片时，上述控制装置变更上述基片台的可动区域，以禁止上述基片架位于上述喷嘴部件或者上述投影光学系统的下方。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||