发明名称 用于制备保护膜的低温快速固化组合物、由该组合物制备的保护膜和包括该保护膜的基板
摘要 本发明涉及一种用于通过低温固化制备具有高强度、耐磨性和优异隔离性能的优异保护膜的组合物、由该组合物制备的保护膜、包括该保护膜的基板以及包括该基板的元件或器件。该组合物包含有机硅氧烷聚合物a)、光产碱剂b)和有机溶剂c)。
申请公布号 CN101517001B 申请公布日期 2011.11.09
申请号 CN200780034593.1 申请日期 2007.09.18
申请人 LG化学株式会社 发明人 孙桢晚;高敏镇;文明善;金秉鲁;郑宰昊
分类号 C08L83/04(2006.01)I 主分类号 C08L83/04(2006.01)I
代理机构 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 代理人 朱梅;黄丽娟
主权项 一种用于制备保护膜的组合物,其包含:a)有机硅氧烷聚合物,其由一种或多种硅烷化合物聚合而成,该硅烷化合物选自:选自由下面通式1表示的化合物中的一种或多种单体;由该单体制备的二聚体;和由该单体、二聚体或其混合物制备的低聚物;b)光产碱剂;和c)有机溶剂,[通式1]SiR1pR24‑p其中,R1各自独立为氢;氟;芳基;乙烯基;烯丙基;或被氟取代或者未取代的具有1~20个碳原子的直链或者支链烷基,R2各自独立为可水解的官能团,其包括具有1~4个碳原子的直链或者支链烷氧基、乙酰氧基或氯,p为0~2的整数。
地址 韩国首尔