Substrate für Spiegel für die EUV-Lithographie und deren Herstellung

摘要

Für die Herstellung von Spiegel für die EUV-Lithographie werden Substrate vorgeschlagen mit einer mittleren relativen Wärmelängenausdehnung von nicht mehr als 10 ppb über eine TemperaturdifferenzΔT von 15°C. Zu diesem Zweck werden mindestens ein erstes und ein zweites Material mit niedrigem Wärmeausdehnungskoeffizienten und entgegengesetzter Steigung der relativen Wärmeausdehung in Abhängigkeit von der Temperatur ausgewählt und durch Mischen und Verbinden dieser Materialien ein Substrat hergestellt.