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经营范围
发明名称
METHOD AND APPARATUS FOR PLATING CU LAYER ON WAFER
摘要
申请公布号
KR20110115801(A)
申请公布日期
2011.10.24
申请号
KR20100035332
申请日期
2010.04.16
申请人
HYNIX SEMICONDUCTOR INC.
发明人
HWANG, EUI SEONG
分类号
C25D7/12
主分类号
C25D7/12
代理机构
代理人
主权项
地址
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