发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR PLATING CU LAYER ON WAFER
摘要
申请公布号 KR20110115801(A) 申请公布日期 2011.10.24
申请号 KR20100035332 申请日期 2010.04.16
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 HWANG, EUI SEONG
分类号 C25D7/12 主分类号 C25D7/12
代理机构 代理人
主权项
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