发明名称 |
一种氮化镓基发光二极管外延片及其生长方法 |
摘要 |
本发明介绍了一种氮化镓基外延片的生长方法,通过在多量子阱层和p型铝镓氮层之间,用三乙基镓作为镓的金属有机源,二茂镁作为受主杂质生长p型空穴注入层,这种生长结构不仅降低了p型层的体电阻,而且提高了注入空穴的有效浓度,增加了空穴与电子在有源区的有效复合,提高了发光二极管的发光效率。按标准芯片工艺制作的300×300μm2的以ITO为透明电极的芯片,其正向电压可降0.15V,光输出效率提高17%以上。 |
申请公布号 |
CN102208505A |
申请公布日期 |
2011.10.05 |
申请号 |
CN201010138875.X |
申请日期 |
2010.03.29 |
申请人 |
大连美明外延片科技有限公司 |
发明人 |
刘俊;杨天鹏;王东盛;关秋云;展望;周德保;肖志国 |
分类号 |
H01L33/14(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/14(2010.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种氮化镓基发光二极管外延片,其结构自下而上依次为蓝宝石衬底、低温氮化镓基缓冲层、非掺杂氮化镓层、n型氮化镓层、多量子阱层、p型铝镓氮层、p型氮化镓层和高掺杂的p型电极接触层,其特征在于多量子阱层和p型铝镓氮层之间还有p型空穴注入层。 |
地址 |
116025 辽宁省大连市高新园区高能街1号 |