发明名称 Substrate processing system
摘要 <p>본 발명에 따른 기판 처리 시스템은 챔버의 내부에서 기판에 유기물을 분사하되 상기 기판과 이격되어 냉각제가 순환되는 냉각통로가 내부에 형성된 냉각 플레이트를 구비하여 상기 기판에서 코팅되지 못하고 탈락된 상기 유기물의 확산을 방지하는 분사부와, 상기 챔버의 외측 하부에서 냉각트랩이 설치되며, 연장되는 길이방향과 교차하는 방향으로 분기 또는 굴곡된 부분이 형성된 펌프연결관을 통해 상기 분사부와 연결되는 펌프를 포함하는 코팅 모듈과, 상기 유기물이 코팅된 기판에 자외선 램프를 통해 자외선을 조사하되, 상기 기판과 상기 자외선 램프 사이에 구비되는 투과창을 가열하는 가열코일을 구비한 경화 모듈을 포함한다.</p>
申请公布号 KR101069842(B1) 申请公布日期 2011.10.04
申请号 KR20090040940 申请日期 2009.05.11
申请人 发明人
分类号 H01L51/56;H05B33/10 主分类号 H01L51/56
代理机构 代理人
主权项
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