反应室

摘要

本发明提供一种反应室，该反应室中界定有反应空间，其中该反应空间为可调节的，以形成流过该反应空间的气体的实质稳定的层流。该实质稳定的层流被配置为提高在反应室内处理的基板上的沉积均匀性，从而提供可预测的沉积轮廓。

主权项

一种反应室，包括：上室，具有固定的上壁；第一入口，与所述上室流体连通，所述第一入口被配置为容许至少一种气体引入所述上室；下室，具有下壁，所述下室与所述上室流体连通；板，分隔所述上室的至少一部分与所述下室的至少一部分，所述板与所述上壁以第一距离间隔开，且所述板与所述下壁以第二距离间隔开；以及出口，与所述第一入口相对地设置；其中所述上室为可调节的，以通过最佳化所述第一距离而在所述第一入口与所述出口之间形成实质稳定的气体层流。