| 主权项 |
一种微影系统，包括：一支撑结构，其经组态以支撑一图案化装置，该图案化装置经组态以提供一图案化辐射光束；一投影系统，其经组态以投射该图案化辐射光束至一基板之一目标部分上；及一液体供应系统，其以一湿浸液体至少部分地充填该投影系统与该基板间之一空间，该湿浸液体具有一折射率，其大于该图案化辐射光束在水中的波长之折射率或包含一有机流体，该有机流体具有一约大于1.10之折射率，其中该液体供应系统之一表面之至少一部分包含聚四氟乙烯(PTFE)、四氟乙烯(TFE)或一氟化烃聚合物，且其中该表面之该部分相邻或远离该液体供应系统至该空间之一入口或出口，且该表面之该部分使用时系与来自该入口及供应至该空间且尚未从该出口移除之液体接触。如请求项1之微影系统，其中该液体供应系统之该部分由该聚四氟乙烯(PTFE)、四氟乙烯(TFE)或氟化烃聚合物制成。如请求项1之微影系统，其中该湿浸液体与该液体供应系统具有一介于约40°与约90°间之接触角度。如请求项1之微影系统，其中该湿浸液体与该基板之一表面、该投影系统之一最后部分或该液体供应系统，具有一约60°之接触角度。如请求项1之微影系统，其中该湿浸液体具有一超过1.11之折射率。如请求项1之微影系统，其中该湿浸液体具有一约1.65之折射率。如请求项1之微影系统，其中该湿浸液体系该有机流体。如请求项1之微影系统，其中该湿浸液体系十氢萘(decahydronaphthalene)。如请求项1之微影系统，另包括：一气体供应系统，其供应气体，该气体在该基板之该表面形成一围绕该湿浸液体之气体帘幕。如请求项9之微影系统，其中该气体帘幕保护该湿浸液体以避开氧。如请求项9之微影系统，其中该气体包括氮。如请求项9之微影系统，其中该气体帘幕系一刀刃气体帘幕。一种微影系统，包括：一支撑结构，其经组态以支撑一图案化装置，该图案化装置经组态以提供一图案化辐射光束；一投影系统，其经组态以投射该图案化辐射光束至一基板之一目标部分上；及一液体供应系统，其经组态以一湿浸液体至少部分地充填该投影系统与该基板间之一空间，其中该湿浸液体具有一折射率，其大于该图案化辐射光束在水中的波长之折射率或包含一有机流体，该有机流体具有一约大于1.10之折射率，及该湿浸液体与该液体供应系统之一表面具有一介于约40°与约90°间之接触角度，该液体供应系统之该表面相邻或远离该液体供应系统至该空间之一入口或出口，且该液体供应系统之该表面使用时系与来自该入口及供应至该空间且尚未从该出口移除之液体接触，且该表面具有从其延伸至该基板之液体凹凸面。如请求项13之微影系统，其中该液体供应系统之一表面之至少一部分至少涂有聚四氟乙烯(PTFE)、四氟乙烯(TFE)或一氟化烃聚合物。如请求项13之微影系统，其中该湿浸液体具有一约1.11至约1.65之折射率。如请求项13之微影系统，其中该湿浸液体系十氢化萘(decahydronaphthalene)。如请求项13之微影系统，其中至少一部分该液体供应系统由聚四氟乙烯(PTFE)、四氟乙烯(TFE)或氟化烃聚合物制成。如请求项13之微影系统，尚包括：一气体供应系统，其供应氮气，该氮气形成一围绕该湿浸液体之刀刃氮气障壁，藉此保护该湿浸液体以避开氧。一种方法，包括：使用一投影系统以投射一图案化辐射光束至一基板之一目标部分上；使用一液体供应系统，其至少一部分包含聚四氟乙烯(PTFE)、四氟乙烯(TFE)或一氟化烃聚合物；及以来自该液体供应系统之一湿浸液体至少部分地充填该投影系统与该基板间之一空间，该湿浸液体具有一折射率，其大于该图案化辐射光束在水中的波长之折射率或包含一有机流体，该有机流体具有一约大于1.10之折射率；其中该表面之该部分相邻或远离该液体供应系统至该空间之一入口或出口，且该表面之该部分系与来自该入口及供应至该空间且尚未从该出口移除之液体接触。一种方法，包括：使用一投影系统以投射一图案化辐射光束至一基板之一目标部分上；以来自该液体供应系统之一湿浸液体至少部分地充满该投影系统与该基板间之一空间，该湿浸液体具有一折射率，其大于该图案化辐射光束在水中的波长之折射率或包含一有机流体，该有机流体具有一约大于1.10之折射率；其中该湿浸液体与该液体供应系统之一表面具有一介于约40°与约90°间之接触角度，该液体供应系统之该表面相邻或远离该液体供应系统至该空间之一入口或出口，且该液体供应系统之该表面使用时系与来自该入口及供应至该空间且尚未从该出口移除之液体接触，且该表面具有从其延伸至该基板之液体凹凸面。 |
