| 发明名称 | 激光近场分布测量用4f光学系统 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种在激光近场分布测量用的4f光学系统，该激光近场分布测量用4f光学系统包括对入射光起会聚作用的会聚元件、对入射光起准直作用的准直元件以及探测器；会聚元件、准直元件以及探测器依次设置于同一光轴上。本实用新型提供了一种测量精度高、结构简单以及使用方便的激光近场分布测量用4f光学系统。 | ||
| 申请公布号 | CN201983855U | 申请公布日期 | 2011.09.21 |
| 申请号 | CN201120074856.5 | 申请日期 | 2011.03.21 |
| 申请人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明人 | 李红光;董晓娜;达争尚 |
| 分类号 | G01J1/04(2006.01)I;G01J9/00(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I;G02B27/30(2006.01)I | 主分类号 | G01J1/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人 | 徐平 |
| 主权项 | 一种激光近场分布测量用4f光学系统，其特征在于：所述激光近场分布测量用4f光学系统包括对入射光起会聚作用的会聚元件、对入射光起准直作用的准直元件以及探测器；所述会聚元件、准直元件以及探测器依次设置于同一光轴上。 | ||
| 地址 | 710119 陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号 | ||