| 主权项 |
一种辐射系统，其包括：一辐射源；一阴极；一阳极，其中该阴极及阳极系组态成用以建立该阳极与该阴极间一放电空间中之一物质的一放电，而形成一电浆，以便产生电磁辐射；以及一触发器件，其系组态成用以藉由以一能量束照射接近该放电空间一预定材料之一表面上的一区域而起始该放电，其中该触发器件系组态成用以控制该区域的一位置，以回应一输入信号。如请求项1之辐射系统，其中该触发器件包括：一能量束源，其系组态成用以产生该能量束；一镜，其系组态成将该能量束反射至该区域；以及一致动器，其系组态成用以定位该镜，以回应该输入信号。如请求项2之辐射系统，其中该能量束源系一雷射。如请求项1之辐射系统，其进一步包括：一浴槽，其包含一液体，其中该阳极及阴极系组态成旋转以便在该浴槽中至少部分润湿之轮。如请求项1之辐射系统，其中该触发器件系组态成用以照射该阳极的部分。如请求项1之辐射系统，其中该触发器件系组态成用以照射该阴极的部分。如请求项1之辐射系统，其中该输入信号系指示一污染物障壁的一传输。如请求项1之辐射系统，其中该输入信号系指示于一微影装置中在基板位准的一远心度值。如请求项1之辐射系统，其中该输入信号系指示于一微影装置中之一辐射束的一狭缝整合均匀度位准。如请求项1之辐射系统，其中该输入信号系指示于一微影装置中之一污染物障壁的一温度。如请求项1之辐射系统，其中该输入信号系指示相对于组态于该微影装置中之一孔径的一微影装置中之一中间焦点的一位置。一种微影装置，其包括：一照明系统，其系组态成用以调节一辐射束；一支撑物，其系组态成用以支撑一图案化器件，该图案化器件系组态成在其断面以一图案赋予该辐射束，以形成一图案化辐射束；一基板台，其系组态成用以固持一基板；一投影系统，其系组态成将该图案化辐射束投影至该基板的一目标部分；以及一辐射系统，其系组态成用以提供该辐射束，该辐射系统包括一辐射源；一阴极；一阳极，其中该阴极及阳极系组态成用以建立该阳极与该阴极间一放电空间中之一物质的一放电而形成一电浆，以便产生电磁辐射；以及一触发器件，其系组态成藉由以一能量束照射接近该放电空间一预定材料之一表面上的一区域而起始该放电，其中该触发器件系组态成用以控制该区域的一位置，以回应一输入信号。如请求项12之微影装置，其进一步包括：一污染物障壁，其系组态成用以接收来自该辐射源之辐射；一感测器，其系组态于该污染物障壁之下游，而且组态成用以测量该辐射束的一能量值，以便形成该触发器件之输入信号。如请求项12之微影装置，其中该照明系统系组态成将该辐射束聚焦于一中间焦点中，该装置其进一步包括：一感测器，其系组态成用以测量相对于组态于该微影装置中之一孔径的中间焦点之一位置，以便形成该触发器件之输入信号。如请求项12之微影装置，其进一步包括：一感测器，其系组态成用以测量在该基板台的一狭缝整合均匀度，以便形成该触发器件之输入信号。如请求项12之微影装置，其进一步包括：一污染物障壁，其系组态成用以接收来自该辐射源之辐射；以及一温度感测器，其系组态成用以测量该污染物障壁之一部分的一温度，以便形成该触发器件之输入信号。如请求项16之微影装置，其进一步包括：一第二温度感测器，其系组态成用以测量该污染物障壁之一第二部分的一第二温度，以便形成该触发器件之输入信号。如请求项12之微影装置，其进一步包括：一光强度感测器，其系组态于该基板台上或附近，该强度感测器及该基板台系组态成在该感测器与该投影系统间之复数个距离测量一辐射强度位准，以便形成指示该投影系统的一远心度值之触发器件之输入信号。一种相对于一辐射系统之光学元件而对准一放电辐射源的一放电轴之方法，其包括：建立一阳极与一阴极间一放电空间中之一物质的一放电而形成一电浆，以便产生电磁辐射；藉由以一能量束照射接近该放电空间一预定材料之一表面上的一区域而触发该放电；控制该区域的一位置，以回应至少一输入信号。 |
