发明名称 等离子体处理装置以及等离子体处理方法
摘要 本发明提供等离子体处理装置及等离子体处理方法。即使簇射极板破裂,也能防止毒性气体被放出到装置外部。以将由腔室(1)、隔离件(1b)和上板(1a)构成的处理容器的上部开口封闭的方式配置簇射极板(7),自簇射极板的开口部(9)向腔室内放射等离子体激发用气体。向配置在簇射极板外侧的隙缝天线(12)供给微波而产生等离子体,用气体吸引装置(28)从气体排出口(18、22)吸引隔离件的内壁与簇射极板的外周面间的第1间隙(16)、隙缝天线的放射面与电介质盖板(6)间的第2间隙(19)中的大气;用气体除害装置(29)除去毒性气体,即使簇射极板破裂,有毒的毒性气体也不会被放出到等离子体处理装置(50)的周边。
申请公布号 CN101587825B 申请公布日期 2011.08.17
申请号 CN200910129414.3 申请日期 2009.03.18
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 石桥清隆
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I;H05H1/24(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种等离子体处理装置,其包括:处理容器,其具有上部开口;顶板,其配置为密封上述处理容器的上部开口,在该顶板的外周面与上述处理容器的内壁之间具有第1间隙;盖构件,其与上述顶板之间具有第2间隙,用于覆盖上述顶板;电磁能供给部件,其配置在上述顶板与上述盖构件之间的第2间隙中,向上述顶板供给电磁能而在上述顶板下方产生等离子体;气体分配部件,其向上述处理容器内的上述顶板的下方分配气体;气流生成部件,其包括吸引部件,所述吸引部件使上述第1间隙内以及上述第2间隙内形成为弱负压并对包括泄露到任一个间隙中的气体的气流进行吸引,以在上述第1间隙以及上述第2间隙中的至少任一个间隙中生成流向上述处理容器外的气流;气体除害部件,其用于从流向上述处理容器外的气流中除去毒性气体。
地址 日本东京都