发明名称 |
制造微阵列的方法 |
摘要 |
一种制造微阵列的方法,包括提供基板,该基板具有采用酸不稳定保护基团保护的官能团固定且能够与低聚物探针偶联的表面;将光酸产生剂提供到基板上;在基板上设置包括凸起区和围绕凸起区的多个凹面区的印记模板,以使得该凸起区接触或邻接基板的上表面以由基板的上表面和印记模板的凸起区和凹面区限定多个反应区;将一个或多个反应区暴露到光以使得在一个或多个暴露的反应区中由光酸产生剂产生酸并且由酸除去对所述一个或多个暴露的反应区中的官能团的保护;以及将低聚物探针提供到基板上以使得低聚物探针与已除去保护的官能团偶联。 |
申请公布号 |
CN101221121B |
申请公布日期 |
2011.08.17 |
申请号 |
CN200710307759.4 |
申请日期 |
2007.07.16 |
申请人 |
三星电子株式会社 |
发明人 |
夏政焕;池圣敏;金京善;金媛善 |
分类号 |
G01N21/00(2006.01)I;G01N33/48(2006.01)I;C12Q1/68(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
戎志敏 |
主权项 |
一种制造微阵列的方法,该方法包括:提供基板,该基板具有采用酸不稳定保护基团保护的官能团固定且能够与低聚物探针偶联的表面;将光酸产生剂提供到基板上;在基板上设置包括凸起区和围绕凸起区的多个凹面区的印记模板,以使得该凸起区接触或邻接基板的上表面以由基板的上表面和印记模板的凸起区和凹面区限定多个反应区;将一个或多个反应区暴露到光以使得在一个或多个暴露的反应区中由光酸产生剂产生酸并且由酸除去对所述一个或多个暴露的反应区中的官能团的保护;以及将低聚物探针提供到基板上以使得低聚物探针与已除去保护的官能团偶联,其中印记模板包括透光区和遮光区,并且利用印记模板作为光掩模进行一个或多个反应区的曝光。 |
地址 |
韩国京畿道 |