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Anordnung zur Erzeugung von EUV-Strahlung auf Basis eines heißen Plasmas unter Verwendung von flüssigem Emittermaterial, mit einer Emittermaterial-Bereitstellungseinheit, die mindestens einen Vorratsbehälter für Emittermaterial enthält, einer evakuierten Wechselwirkungskammer, in der ein fokussierter gepulster Energiestrahl auf einen Wechselwirkungspunkt gerichtet ist, sowie einer Injektionseinrichtung zum reproduzierbaren Bereitstellen von Tropfen des Emittermaterials im Wechselwirkungspunkt synchronisiert zum gepulsten Energiestrahl, um die Tropfen in heißes Plasma zur EUV-Emission zu konvertieren, dadurch gekennzeichnet, dass – die Emittermaterial-Bereitstellungseinheit (4) zwischen dem Vorratsbehälter (41) und der Injektionseinrichtung (5) mindestens einen ersten und einen zweiten Druckbehälter (44, 44') zur Erzeugung eines hohen Emittermaterialdruckes für die Injektionseinheit (5) aufweist, – die Druckbehälter (44, 44') von einem Hochdruck-Gassystem (73) mit einem Gasdruck (74) im Megapascal-Bereich beaufschlagt sind, um einen permanenten konstanten Emittermaterialdruck in der Injektionseinrichtung (5) aufrechtzuerhalten, und – die Emittermaterial-Bereitstellungseinheit (4) Mittel zum Umschalten des Hochdruck-Gassystems (73) von einem auf den anderen Druckbehälter (44, 44') und...
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