| 发明名称 | 用于连续沉积薄膜层到基底上的模块系统和方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于连续沉积薄膜层到基底上的模块系统和方法。具体而言，一种用于在光电(PV)模块基底(14)上汽相沉积薄膜层的系统(10)及相关方法，包括建立真空腔室(16)以及将基底单独地引入真空腔室中。传送器系统可操作地布置在真空腔室中并且构造成用于以串接布置在受控的恒定线速度下将基底传送经过汽相沉积设备。后加热区段布置在所述真空腔室中，在基底传送方向上直接位于汽相沉积设备的下游。后加热区段构造成用以将传送自汽相沉积设备的基底维持在期望的加热温度轮廓，直到整个基底引出汽相沉积设备。 | ||
| 申请公布号 | CN102127747A | 申请公布日期 | 2011.07.20 |
| 申请号 | CN201010625160.7 | 申请日期 | 2010.12.15 |
| 申请人 | 初星太阳能公司 | 发明人 | M·J·帕沃尔;R·W·布莱克;B·R·墨菲;C·拉思维格;E·J·利特尔;M·W·里德 |
| 分类号 | C23C14/56(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/56(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 朱铁宏;谭祐祥 |
| 主权项 | 一种用于汽相沉积薄膜层到光电(PV)模块基底(14)上的方法，包括：以串接布置传送基底经过真空腔室(16)中的汽相沉积设备(22)，在其中，升华的源材料的薄膜沉积在所述基底的上表面上，所述基底以受控的恒定线速度传送经过所述汽相沉积设备，使得在传送方向上所述基底的前部区段和后部区段在所述汽相沉积设备内经受相同的汽相沉积条件；当所述基底传送出所述汽相沉积设备时，对所述基底后加热，以便沿所述基底的长度维持大致均匀的温度，直到整个所述基底传送出所述汽相沉积设备；以及，在所述后加热步骤之后冷却所述基底。 | ||
| 地址 | 美国科罗拉多州 | ||