| 发明名称 | 用于形成精细图案的光掩模及使用该光掩模形成精细图案的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种具有主图案和包含在主图案中的辅图案的光掩模。该光掩模使得甚至用具有相对较大尺寸的光掩模也可容易地形成精细图案。 | ||
| 申请公布号 | CN102103325A | 申请公布日期 | 2011.06.22 |
| 申请号 | CN201010610214.2 | 申请日期 | 2010.12.17 |
| 申请人 | 株式会社LG化学 | 发明人 | 李健雨;郭尚圭;李昌淳 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人 | 杨勇;郑建晖 |
| 主权项 | 一种用于形成精细图案的光掩模，其中辅图案包含在主图案中。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||