| 发明名称 | 镀有复合电介质层和复合减反层的高透射镀膜玻璃及生产工艺 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种镀有复合电介质层和复合减反层的高透射镀膜玻璃及生产工艺，该产品自玻璃基板向外的结构层依次为：玻璃/复合减反层（1）+银层（1）+保护层（1）/复合电介质层（1）+银层（2）+保护层（2）+复合减反层（2）+银层（3）+保护层(3)+电介质层（1）；各膜层镀制工艺，采用真空磁控溅射镀膜工艺，优点是，具有极强的红外线反射能力，膜层表面辐射率低，实现可见光的高透过率和中低反射率等优良特性的玻璃的同时，获得比传统双银低辐射膜更高的遮阳性能。 | ||
| 申请公布号 | CN102079629A | 申请公布日期 | 2011.06.01 |
| 申请号 | CN201010580391.0 | 申请日期 | 2010.12.09 |
| 申请人 | 上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司;上海耀皮建筑玻璃有限公司;天津耀皮工程玻璃有限公司 | 发明人 | 吴斌;李志军;徐佳霖;沈国全;陈海嵘;杨国浩 |
| 分类号 | C03C17/36(2006.01)I | 主分类号 | C03C17/36(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 | 代理人 | 罗习群 |
| 主权项 | 一种镀有复合电介质层和复合减反层的高透射镀膜玻璃，其特征在于：在玻璃基板镀制包含有复合电介质层和复合减反层在内的三层银层结构，各膜层结构，自玻璃基板向外依次为：玻璃和 复合减反层（1）+银层（1）+保护层（1）和复合电介质层（1）+银层（2）+保护层（2）+复合减反层（2）+银层（3）+保护层(3)+电介质层（1）；各膜层厚度是：电介质层（1）为Si3N4，膜层厚度为 10nm‑100nm;银层（1）、（2）、（3）为Ag，膜层厚度分别为 5nm‑50nm;复合减反层（1）、（2）为SiO2+ZnO，厚度为分别10nm‑100nm;保护层（1）、（2）、(3)为NiCrOx，膜层厚度为分别为1nm‑50nm; 复合电介质层（1）为ZnO+SnO2+ZnO结构，膜层厚度为 10nm‑110nm。 | ||
| 地址 | 201204 上海市浦东新区浦东莲溪路1210号1号楼 | ||