发明名称 | 用于制造光盘母盘的方法和装置,用于制造光盘的方法 | ||
摘要 | 一种制造光盘母盘的方法,包括步骤:通过将激光施加到具有无机抗蚀剂层的光盘母盘形成基片,测量多个半径位置中的每一个半径位置处的激光的反射率,该激光具有小于无机抗蚀剂层的记录灵敏度的非记录激光功率,通过使用在多个半径位置测量的反射率,生成根据光盘母盘形成基片的半径位置指示记录激光功率的记录功率控制数据,通过基于记录功率控制数据将激光施加到光盘母盘形成基片,同时根据半径位置改变记录功率,在无机抗蚀剂层上形成曝光图案,以及显影具有曝光图案的无机抗蚀剂层,从而制备不平图案。 | ||
申请公布号 | CN101055742B | 申请公布日期 | 2011.05.25 |
申请号 | CN200710096532.X | 申请日期 | 2007.04.11 |
申请人 | 索尼株式会社 | 发明人 | 白鹭俊彦 |
分类号 | G11B7/26(2006.01)I | 主分类号 | G11B7/26(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 杜娟 |
主权项 | 一种制造光盘母盘的方法,包括步骤:作为反射率测量步骤,通过将激光施加到具有无机抗蚀剂层的光盘母盘形成基片的多个半径位置中的每一个半径位置来测量激光的反射率,该激光具有小于无机抗蚀剂层的记录灵敏度的非记录激光功率;作为控制数据生成步骤,通过使用在多个半径位置测量的反射率和预先准备的反射率与热感记录灵敏度之间的相关数据,获取光盘母盘形成基片的整个记录区的以半径为基础的热感记录灵敏度概图,由此生成根据光盘母盘形成基片的半径位置指示记录激光功率的记录功率控制数据;作为记录步骤,通过将激光施加到光盘母盘形成基片,同时基于记录功率控制数据、根据半径位置改变记录功率,在无机抗蚀剂层上形成曝光图案;以及作为显影步骤,显影具有记录步骤中的曝光图案的无机抗蚀剂层,从而制备不平图案。 | ||
地址 | 日本东京 |