| 发明名称 |
Verfahren zur Wärmebehandlung von Halbleitereinkristallen |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
CH464152(A) |
申请公布日期 |
1968.10.31 |
| 申请号 |
CH19660001127D |
申请日期 |
1966.08.04 |
| 申请人 |
SIEMENS-SCHUCKERTWERKE AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
SCHMIDT,OTTO |
| 分类号 |
C22F1/00;C22F1/16;(IPC1-7):B01J17/00 |
主分类号 |
C22F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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