发明名称 |
用于在清洁模块中垂直转移半导体基材的方法及设备 |
摘要 |
本发明是提供一种基材处理器。于一实施例中,该基材处理器包括耦接于一轨道的一第一及第二载件。一具有两个抓持部的第一机器人则连接至该第一载件。一具有至少一抓持部的第二机器人则耦接至该第二载件。该第一载件可相对于第二载件独立地沿该导引件作定位。由于各载件具有独立的致动器,第一及第二机器人的移动便可分开以增加产量。基材处理器特别适用于具有集成基材清洁器的平坦化系统。 |
申请公布号 |
CN101409226B |
申请公布日期 |
2011.03.30 |
申请号 |
CN200810175057.X |
申请日期 |
2006.05.11 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
J·尤多夫斯基;H·陈 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
陆嘉 |
主权项 |
一种用于清洁基材的方法,其至少包含:沿第一移动轴将第一及第二机器人定位于数个清洁模块之上;自输入模块取得基材,并由该第一机器人将该基材置放于第一清洁模块中;自该第一清洁模块取得该基材,并由该第一机器人将该基材置放于该第二清洁模块中;自该第二清洁模块取得该基材,并由该第一机器人将该基材置于第三清洁模块中;自该第三清洁模块取得该基材,并由该第二机器人将该基材置于干燥器中;以及自该干燥器取得该基材,并由该第二机器人将该基材置于输出模块中。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |