发明名称 |
疏水化处理装置、疏水化处理方法以及存储介质 |
摘要 |
本发明提供一种药液的气化效率高、且能向基板供给高浓度的疏水化气体、还能抑制药液发生变质的疏水化处理装置、疏水化处理方法以及存储介质。疏水化处理装置包括:气化面形成部,其表面位于气化室内;气化面加热部件,其用于加热该气化面形成部;药液供给口,其用于将疏水化处理用的药液供给到上述气化面形成部的表面上;气体导入口,其用于将载气导入上述气化室内;引出口,其用于引出疏水化气体;处理容器,其用于将自上述引出口供给的疏水化气体供给到基板上。利用该结构能够将高浓度的疏水化气体供给到基板上,且由于在不进行处理时所贮存的药液不会与载气接触,因此能够抑制药液变质。 |
申请公布号 |
CN101996859A |
申请公布日期 |
2011.03.30 |
申请号 |
CN201010262548.5 |
申请日期 |
2010.08.24 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
新村聪;福冈哲夫;北野高广 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种疏水化处理装置,其特征在于,该疏水化处理装置包括:气化面形成部,其表面位于气化室内;气化面加热部件,其用于加热上述气化面形成部;药液供给口,其用于将疏水化处理用的药液供给到上述气化面形成部的表面上;气体导入口,其用于将载气导入上述气化室内;引出口,其用于引出在上述气化室内被气化了的疏水化气体;处理容器,其用于利用自上述引出口供给的疏水化气体对被载置在该处理容器内部的基板进行疏水化处理。 |
地址 |
日本东京都 |