发明名称 |
表面凹凸的制作方法 |
摘要 |
提供一种使用光掩模,能够容易且高精度地形成所需的凹凸形状的表面凹凸制作方法。在由感光性树脂组合物形成的感光膜的一侧,以相对感光膜保持间隔的方式配置具备光透过部与光不透过部的掩模部件,从配置在掩模部件侧的光源照射光,通过掩模部件的光透过部,曝光感光膜,再通过显影来除去感光膜的曝光部或未曝光部,在感光膜上制作由曝光部或未曝光部的形状决定的凹凸。并且在曝光之际,控制光源与掩模部件的遮光面间的距离L,光源的大小D,掩模部件与感光膜间的光学距离T等曝光条件,由此控制曝光部或未曝光部的形状。 |
申请公布号 |
CN101283313B |
申请公布日期 |
2011.03.16 |
申请号 |
CN200680037154.1 |
申请日期 |
2006.09.28 |
申请人 |
木本股份有限公司 |
发明人 |
饵取英树 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G02B5/02(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
李贵亮 |
主权项 |
一种表面凹凸的制作方法,其是在材料的表面上制作微细的凹凸的方法,其特征在于,包括:在由感光性树脂组合物形成的感光膜的一侧,相对所述感光膜保持间隔来配置具有光透过部与光不透过部的掩模部件的步骤;从配置在该掩模部件侧的光源照射光,经由所述掩模部件的光透过部曝光所述感光膜的步骤;以及通过显影来除去所述感光膜的曝光部或未曝光部,在所述感光膜上制作由曝光部或未曝光部的形状来决定的凹凸的步骤,在所述曝光步骤中,作为曝光条件至少控制所述光源与掩模的遮光面之间的距离以及光源的大小,控制所述曝光部或未曝光部的形状,当将通过光源中心的光源的法线与掩模部件的遮光面的交点、和光源中心间的距离设为L,并将所述光源的大小设为D(单位长度)时,控制为由θ=2tan‑1(D/2L)定义的角度θ的最大值在10°以上且30°以下。 |
地址 |
日本国东京都 |