| 发明名称 |
Verfahren zum Ätzen von Siliziumoberflächen |
| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ätzen von Siliziumoberflächen mit folgenden Schritten: Bereitstellen einer zumindest ein Hydrokolloid enthaltenden wässrigen alkalischen Hydrokolloid-Ätzlösung mit einer Temperatur von 50 bis 95°C, Inkontaktbringen der Siliziumoberfläche mit der Hydrokolloid-Ätzlösung für eine vorgegebene Dauer und Entfernenäche.
|
| 申请公布号 |
DE102009028762(A1) |
申请公布日期 |
2011.03.03 |
| 申请号 |
DE20091028762 |
申请日期 |
2009.08.20 |
| 申请人 |
RENA GMBH |
发明人 |
EL JAOUHARI, AHMED ABDELBAR;SCHWECKENDIEK, JUERGEN |
| 分类号 |
H01L21/306;C23F1/00;C23F1/40;C23F1/42 |
主分类号 |
H01L21/306 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
