发明名称 |
耐热遮光片及其制造方法、采用它的光圈或光量调节装置 |
摘要 |
本发明提供一种耐热遮光片及其制造方法、以及采用它的光圈或光量调节装置,该耐热遮光片作为数码照相机、数码摄像机的镜头快门等的快门叶片或光圈叶片或者投影仪的光量调节用光圈装置的光圈叶片等光学仪器部件使用,耐光性、耐热性、滑动性、低光泽性、导电性优良。该耐热遮光薄片特征在于:包括具有200℃以上的耐热性的树脂片基材(A)、在树脂片基材(A)一面或两面上通过溅射法形成的具有50nm以上厚度的Ni类金属膜(B)、在Ni类金属膜(B)上通过溅射法形成的低反射性Ni类氧化物膜(C),并且表面粗糙度为0.1~0.7μm(算术平均高度Ra)。 |
申请公布号 |
CN101191843B |
申请公布日期 |
2011.01.19 |
申请号 |
CN200710188282.2 |
申请日期 |
2007.11.30 |
申请人 |
住友金属矿山株式会社 |
发明人 |
小野胜史;阿部能之;塚越幸夫 |
分类号 |
G02B5/00(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/20(2006.01)I;G03B9/02(2006.01)I;G03B9/08(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京三幸商标专利事务所 11216 |
代理人 |
刘激扬 |
主权项 |
一种耐热遮光片,其特征在于:包括由从聚酰亚胺、芳族聚酰胺、聚苯硫醚或者聚醚砜中选出的一种以上构成、表面粗糙度以算术平均高度Ra计为0.2~0.8μm且具有200℃以上的耐热性的树脂片基材(A)、在树脂片基材(A)一面或两面上通过溅射法形成的厚度为50~250nm的Ni类金属膜(B)、在Ni类金属膜(B)上通过溅射法形成的厚度为5~240nm的低反射性Ni类氧化物膜(C),并且表面粗糙度以算术平均高度Ra计为0.1~0.7μm,其中Ni类金属膜(B)是以镍为主要成分,含有从由钛、钽、钨、钒、铝以及铜构成的群组中选出的1种以上添加元素的镍类合金膜,Ni类氧化物膜(C)以镍为主要成分,并进一步含有从由钛、钽、钨、钒、铝以及铜构成的群组中选出的1种以上添加元素。 |
地址 |
日本国东京都 |