磁控溅射装置组合单元

摘要

本实用新型提供一种磁控溅射装置组合单元，包括阴极，分子泵以及导流罩，所述的分子泵设置在导流罩内，所述的分子泵与阴极并列设置。本实用新型的磁控溅射装置组合单元通过将阴极和分子泵设置在一个单元里，节约了镀膜设备中的单元数量，而又达到了同样的工艺效果，这样对所有因设备单元数量有限而使多层镀膜受限制提供了一个很好的解决方案，在不增加设备购买以及满足产品性能要求的情况下，可以继续放置更多的阴极进行多层镀膜，从而大大的节约了生产成本，提高了生产效率。

主权项

一种磁控溅射装置组合单元，其特征在于：包括阴极，分子泵以及导流罩，所述的分子泵设置在导流罩内，所述的分子泵与阴极并列设置。