发明名称
摘要 Methods and apparatus for producing a gallium nitride semiconductor on insulator structure include: bonding a single crystal silicon layer to a transparent substrate; and growing a single crystal gallium nitride layer on the single crystal silicon layer.
申请公布号 JP2011501431(A) 申请公布日期 2011.01.06
申请号 JP20100529916 申请日期 2008.10.08
申请人 发明人
分类号 H01L33/32;H01L21/20;H01L33/00 主分类号 H01L33/32
代理机构 代理人
主权项
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