| 发明名称 | 用于高气体流速处理的环形等离子体室 | ||
| 摘要 | 一种用于激活工艺气体的等离子体室，包括：形成环形等离子体通道的至少四段，每一段具有一横截面积；以及在一段上形成的出口，该出口的横截面积大于其它段的横截面积。该等离子体室还包括：用于接收工艺气体的入口；以及压力通风室，用于在与出口相对的段的宽阔区域上引入工艺气体，以降低局部高等离子体阻抗和气流不稳定性，其中与出口相对的段限定多个孔以在等离子体通道中提供螺旋状气旋。 | ||
| 申请公布号 | CN101939812A | 申请公布日期 | 2011.01.05 |
| 申请号 | CN200780101172.6 | 申请日期 | 2007.10.19 |
| 申请人 | MKS仪器股份有限公司 | 发明人 | X·陈;A·考韦 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 李玲;谢喜堂 |
| 主权项 | 一种与活性气体源一起使用的等离子体室，包括：形成环形等离子体通道的至少四段，每一段具有一横截面积；以及在一段上形成的出口，所述出口的横截面积大于其它段的横截面积。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||