Beschichtete Partikel und deren Verwendung

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft die Verwendung von Partikeln umfassend ein Substrat und eine oberflächige oder oberflächennahe SiO-Schicht oder eine in eine Matrix eingebettete SiO-Partikel enthaltende oberflächige oder oberflächennahe Schicht in elektrostatischen Beschichtungsverfahren, wobei ditens 2.5 Gew.-% SiObezogen auf das Partikelgesamtgewicht umfasst, einen Pulverlack enthaltend solche Partikel, elektrostatische Beschichtungsverfahren und solche Partikel an sich.