| 发明名称 | 利用粒子束的薄膜材料处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供处理基板的方法的一些例子。在一实施例中，此方法可以包括产生含有多个粒子的连续粒子束；以及将连续粒子束导入基板的非晶相区域，以将此区域由非晶相转变为结晶相，其中连续粒子束的电流密度为5×1014粒子/平方厘米·秒(particles/cm2sec)或更大。 | ||
| 申请公布号 | CN101897006A | 申请公布日期 | 2010.11.24 |
| 申请号 | CN200880120202.2 | 申请日期 | 2008.11.13 |
| 申请人 | 瓦里安半导体设备公司 | 发明人 | 乔纳森·吉罗德·英格兰;法兰克·辛克莱;约翰(本雄)·具;拉杰许·都蕾;卢多维克·葛特 |
| 分类号 | H01L21/26(2006.01)I;H01L31/042(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 臧建明 |
| 主权项 | 一种处理基板的方法，包括：产生连续粒子束，所述连续粒子束含有多个粒子；以及将所述连续粒子束导入基板的非晶相区域，以将所述区域由非晶相转变为结晶相，其中所述连续粒子束的电流密度为5x1014粒子/平方厘米·秒或更大。 | ||
| 地址 | 美国麻萨诸塞州 | ||