| 主权项 |
一种深锅状铜制溅镀靶，系藉由模锻所制造，其特征在于：该深锅状靶内面所有部位的维克氏硬度Hv皆为70以上。如申请专利范围第1项之深锅状铜制溅镀靶，其中，硬度Hv最高部位与最低部位的硬度差为±30%以内。如申请专利范围第1或2项之深锅状铜制溅镀靶，其中，靶组织之平均晶粒粒径为65μm以下。如申请专利范围第1或2项之深锅状铜制溅镀靶，其中，最大平均晶粒粒径/最小平均晶粒粒径<2.0。如申请专利范围第3项之深锅状铜制溅镀靶，其中，最大平均晶粒粒径/最小平均晶粒粒径<2.0。如申请专利范围第1或2项之深锅状铜制溅镀靶，其中，深锅状靶内部之面具有以X射线绕射所测得之(220)、(111)、(200)、(311)的结晶配向，且该深锅状靶之溅蚀面的结晶配向系以(220)为主配向。如申请专利范围第1或2项之深锅状铜制溅镀靶，其中，深锅状靶内部之面具有以X射线绕射所测得之(220)、(111)、(200)、(311)的结晶配向，且该深锅状靶之溅蚀面的(220)结晶配向其配向率为45%以上。 |
