发明名称 使用一种多个投射光罩以制造多个电路图案之方法及装置
摘要
申请公布号 TWI332677 申请公布日期 2010.11.01
申请号 TW093110399 申请日期 2004.04.14
申请人 艾基尔系统公司 发明人 瑞吉诺C 法罗;华伦K 魏斯基威克
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种用于制造具有复数个电路图案之基板之方法,该方法包括以下步骤:将一基板曝露于一具有复数个欲印刷之电路图案之主光罩,其中该等复数个电路图案系由一或多个排斥区域包围;以及将该基板曝露于一第二光罩,其中该第二光罩具有一图案,该图案满足一后续处理之至少一设计规则,其中该第二光罩图案与该排斥区域一致。如申请专利范围第1项之方法,其中该第二光罩图案包括一填充图案阵列。如申请专利范围第1项之方法,其中该至少一设计规则指定一或多个金属层。如申请专利范围第1项之方法,其中该至少一设计规则指定一化学机械抛光处理之特性。如申请专利范围第1项之方法,其中该至少一设计规则指定一蚀刻处理之特性。一种具有复数个电路图案之基板,其包括:从一主光罩印刷之复数个电路图案,其中该等复数个电路图案系由一或多个排斥区域包围;以及一从一第二光罩印刷之图案,该图案满足一后续处理之至少一设计规则,其中该第二光罩图案与该排斥区域一致。如申请专利范围第6项之基板,其中该第二光罩图案包括一填充图案阵列。一种用于制造具有复数个电路图案之基板之方法,该方法包括以下步骤:将一基板曝露于一具有复数个电路图案之主光罩,且该等复数个电路图案系由一或多个排斥区域包围;以及将该基板曝露于一具有一图案之第二光罩,该图案满足至少一设计规则,其中该第二光罩对应于该等排斥区域。
地址 美国