发明名称 高亮度氮化镓基发光二极管及其制备方法
摘要 本发明公开的高亮度氮化镓基发光二极管及其制备方法,在衬底上外延一由N型GaN层、发光层、P型GaN层构成的外延层;第一分布布拉格反射层,形成于外延层第一区域上;第二分布布拉格反射层,形成于外延层第二区域上;导电层形成于第一分布布拉格反射层上且覆盖于外延层第一区域;P电极形成于导电层上;N电极形成于第二分布布拉格反射层上且覆盖至N型GaN层上;其中第一分布布拉格反射层位于P电极正下方,且第一分布布拉格反射层图案面积大于或者等于P电极的图案面积;本发明设有分布布拉格反射层,不但可以充分地把光反射出来,防止光被电极吸收,还可使电流均匀地扩散,起到双重提高光输出效率的作用。
申请公布号 CN101859859A 申请公布日期 2010.10.13
申请号 CN201010170914.4 申请日期 2010.05.04
申请人 厦门市三安光电科技有限公司 发明人 林素慧;彭康伟;刘传桂;林科闯;郑建森
分类号 H01L33/44(2010.01)I;H01L33/46(2010.01)I 主分类号 H01L33/44(2010.01)I
代理机构 厦门原创专利事务所 35101 代理人 徐东峰
主权项 高亮度氮化镓基发光二极管,其特征在于:在衬底上外延一由N型GaN层、发光层、P型GaN层构成的外延层;第一分布布拉格反射层,形成于外延层第一区域上;第二分布布拉格反射层,形成于外延层第二区域上;导电层形成于第一分布布拉格反射层上且覆盖于外延层第一区域;P电极形成于导电层上;N电极形成于第二分布布拉格反射层上且覆盖至N型GaN层上;其中第一分布布拉格反射层位于P电极正下方,且第一分布布拉格反射层图案面积大于或者等于P电极的图案面积。
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