发明名称 |
高亮度氮化镓基发光二极管及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开的高亮度氮化镓基发光二极管及其制备方法,在衬底上外延一由N型GaN层、发光层、P型GaN层构成的外延层;第一分布布拉格反射层,形成于外延层第一区域上;第二分布布拉格反射层,形成于外延层第二区域上;导电层形成于第一分布布拉格反射层上且覆盖于外延层第一区域;P电极形成于导电层上;N电极形成于第二分布布拉格反射层上且覆盖至N型GaN层上;其中第一分布布拉格反射层位于P电极正下方,且第一分布布拉格反射层图案面积大于或者等于P电极的图案面积;本发明设有分布布拉格反射层,不但可以充分地把光反射出来,防止光被电极吸收,还可使电流均匀地扩散,起到双重提高光输出效率的作用。 |
申请公布号 |
CN101859859A |
申请公布日期 |
2010.10.13 |
申请号 |
CN201010170914.4 |
申请日期 |
2010.05.04 |
申请人 |
厦门市三安光电科技有限公司 |
发明人 |
林素慧;彭康伟;刘传桂;林科闯;郑建森 |
分类号 |
H01L33/44(2010.01)I;H01L33/46(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/44(2010.01)I |
代理机构 |
厦门原创专利事务所 35101 |
代理人 |
徐东峰 |
主权项 |
高亮度氮化镓基发光二极管,其特征在于:在衬底上外延一由N型GaN层、发光层、P型GaN层构成的外延层;第一分布布拉格反射层,形成于外延层第一区域上;第二分布布拉格反射层,形成于外延层第二区域上;导电层形成于第一分布布拉格反射层上且覆盖于外延层第一区域;P电极形成于导电层上;N电极形成于第二分布布拉格反射层上且覆盖至N型GaN层上;其中第一分布布拉格反射层位于P电极正下方,且第一分布布拉格反射层图案面积大于或者等于P电极的图案面积。 |
地址 |
361009 福建省厦门市思明区吕岭路1721-1725号 |