发明名称 | 超声波探伤方法和超声波探伤装置 | ||
摘要 | 将检查对象(6)放置在与放置超声波传播介质(2)并用高分子膜(1)密封开口部的介质槽(10)分开的、与介质槽的高分子膜相对并形成开口的检查对象放置容器本体(12)中,用介质槽(10)的高分子膜(1)覆盖检查对象放置容器本体(12)的开口,同时对由框体(14)和高分子膜(1)及检查对象(6)形成的测定环境空间(17)进行减压,使高分子膜(1)紧贴在检查对象(6)上,从超声波探头(8)通过超声波传播介质(2)和高分子膜(1)向检查对象(6)发射超声波,来进行探伤检查。 | ||
申请公布号 | CN101156065B | 申请公布日期 | 2010.09.29 |
申请号 | CN200680011066.4 | 申请日期 | 2006.06.12 |
申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 桂浩章;上田阳一郎;后川和也 |
分类号 | G01N29/28(2006.01)I | 主分类号 | G01N29/28(2006.01)I |
代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 张鑫 |
主权项 | 一种超声波探伤方法,其特征在于,当通过高分子膜使超声波传播介质与检查对象基板上的检查对象元器件接触,且超声波探头通过所述超声波传播介质对所述检查对象元器件进行超声波检查时,将检查对象基板放置在与放置超声波传播介质并用高分子膜密封开口部的介质槽分开的、且与介质槽的所述高分子膜相对并形成开口的检查对象放置容器本体中,使介质槽与检查对象容器本体相对移动,并用介质槽的所述高分子膜覆盖检查对象放置容器本体的所述开口,同时对由与所述检查对象放置容器本体形成一体或者连接的框体和所述高分子膜及检查对象基板形成的所述测定环境空间进行减压,使所述高分子膜与检查对象基板紧贴,从超声波探头通过所述超声波传播介质和高分子膜向检查对象元器件发射超声波,来进行探伤检查。 | ||
地址 | 日本大阪府 |