发明名称 一种超低摩擦的纳米γ-Fe<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/SiO<sub>2</sub>磁性复合材料及其制备方法
摘要 本发明公开了一种超低摩擦的纳米γ-Fe2O3/SiO2磁性复合材料及其制备方法,该种磁性复合材料的成分原子质量百分比为:Fe:10.0~30.0%;Si:10~40.0%;N:1~3%;余量为O。其制备方法为:首先用射频等离子体增强化学气相沉积法在钢基体上制备无定形Si膜,得到薄膜试样;再将所得的薄膜试样置于惰性保护气体中,以400-800℃处理1~3小时,得到纳米γ-Fe2O3/SiO2磁复合材料。然后将该磁复合材料在氮气气氛保护下冷却至室温。该制备方法不但工艺简单、易于实现工业化生产。这种磁性复合材料中只有γ-Fe2O3,不会发生α-Fe2O3相转变,保持了纳米γ-Fe2O3的纯度。与传统的γ-Fe2O3材料相比,γ-Fe2O3材料的热稳定性显著提高。相变温度的提高,对拓宽γ-Fe2O3作为磁记录材料的应用范围具有极其重要的意义。
申请公布号 CN101840761A 申请公布日期 2010.09.22
申请号 CN201010170256.9 申请日期 2010.05.12
申请人 曾群锋 发明人 曾群锋
分类号 H01F1/11(2006.01)I;H01F1/36(2006.01)I;C23C16/513(2006.01)I;G11B5/62(2006.01)I 主分类号 H01F1/11(2006.01)I
代理机构 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人 汪人和
主权项 一种超低摩擦的纳米γ-Fe2O3/SiO2磁性复合材料,其特征在于:该磁性复合材料的成分原子质量百分比为:Fe:10.0~30.0%;Si10~40.0%;N:1~3%;余量为O。
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