可控降解的微弧氧化金属支架及其制备方法

摘要

本发明涉及一种可控降解的微弧氧化金属支架及其制备方法，该支架具有微弧氧化膜层和可降解高分子涂层，该方法包括步骤：将可降解的金属加工成支架；对支架进行预处理，去除支架表面的氧化物；将支架放入微弧氧化电解液中，支架作为电解槽的阳极，通入直流或交流电进行微弧氧化处理，使支架的表面具有微弧氧化膜层；将微弧氧化处理后的支架进行清洗；在清洗后的支架表面喷涂可降解高分子材料，该可降解高分子材料携带治疗性药物。本发明支架上的微弧氧化膜层可以明显降低支架的腐蚀速率，延长支架的使用寿命，同时也保证了降解过程中材料的力学性能。

主权项

一种可控降解的微弧氧化金属支架制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：S1：选用可降解的金属加工成支架；S2：对所述支架进行预处理，去除支架表面的氧化物；S3：将所述支架放入微弧氧化电解液中，所述支架作为电解槽的阳极，通入直流或交流电进行微弧氧化处理，使所述支架的表面具有微弧氧化膜层；S4：将微弧氧化处理后的支架依次用去离子水、超声波清洗机进行清洗；S5：在清洗后的支架表面喷涂可降解高分子材料；S6，使支架匀速旋转；用含有1％～15％雷帕霉素或紫杉醇的溶液对支架进行定向喷涂1～15次。