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一种气浮式元件吸取装置，其主要系包括：一基座，其底面系具有一开口朝下的腔室，且设有一自外侧贯通至腔室的穿孔；一引导元件，系收容于该基座之腔室中，其凹设有一凹槽连通于该穿孔，且该凹槽壁上则穿设有至少一通孔，并于该基座与引导元件间形成导引通道，而使该凹槽、通孔与导引通道相通以形成入气通道；一保持座，系设置于该基座底下，于该保持座与基座间形成出气通道与入气通道相通，且该保持座中央系形成一向内渐缩的开口，且该开口内侧系设有至少一沟槽与出气通道相通。如申请专利范围第1项所述之气浮式元件吸取装置，其中该基座之腔室进一步包括有一上腔室及一下腔室。如申请专利范围第2项所述之气浮式元件吸取装置，其中该上腔室之内径系小于下腔室之内径。如申请专利范围第3项所述之气浮式元件吸取装置，其中该引导元件系具有一柱体及一抵挡部，而该抵挡部系向外延设于该柱体底端。如申请专利范围第4项所述之气浮式元件吸取装置，其中该引导元件之柱体构形系与基座之上腔室相对应，以便将柱体之上半段嵌合于上腔室中。如申请专利范围第5项所述之气浮式元件吸取装置，其中该柱体之底端外径略小于该基座之下腔室之内径。如申请专利范围第6项所述之气浮式元件吸取装置，其中该柱体之长度系略大于该腔室之高度，使该抵挡部悬设于基座下腔室之下端。如申请专利范围第7项所述之气浮式元件吸取装置，其中该抵挡部之顶面系略高于该出气通道之底缘。如申请专利范围第1或8项所述之气浮式元件吸取装置，其中该基座与保持座间系设有垫片以形成出气通道。如申请专利范围第9项所述之气浮式元件吸取装置，其中该基座与保持座系以锁固元件固设。如申请专利范围第10项所述之气浮式元件吸取装置，其中该保持座之开口内侧系形成向内缩之阶层。 |
