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发明名称 Method for processing substrate and semiconductor manufacturing apparatus
摘要
申请公布号 KR100979104(B1) 申请公布日期 2010.08.31
申请号 KR20080006090 申请日期 2008.01.21
申请人 发明人
分类号 H01L21/324;H01L21/02;H01L21/66 主分类号 H01L21/324
代理机构 代理人
主权项
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