| 摘要 |
A presente invenção refere-se a um aparelho para revestimento de um substrato usando deposição física de vapor, compreendendo uma câmara de vácuo, na qual uma bobina (1) é colocada para manter uma quantidade de material condutor (10) em levitação e para aquecimento e evaporação desse material, usando uma corrente elétrica variável na bobina, e em que meios (3) são colocados na bobina para isolá-la do material levitado. De acordo com a invenção, o aparelho é caracterizado pelo fato de que os meios isolantes são parte de um recipiente (2), feito de material condutor, o recipiente tendo uma ou mais aberturas (5) para direcionar o material condutor evaporado para o substrato a ser revestido. A invenção se refere a um processo para revestimento de um substrato usando deposição física de vapor.
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