发明名称 运动感测器及其制造方法;MOTION SENSOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
摘要 本发明揭示一种微机器,其包含采用一导体形成的一可移动区段及采用一导体形成的一支撑区段,其中该可移动区段及该支撑区段系彼此分离,在该导体上提供一绝缘层,在该绝缘层上提供一导电层,并且形成该导电层以便跨立该可移动区段及该支撑区段。
申请公布号 TWI328118 申请公布日期 2010.08.01
申请号 TW096113222 申请日期 2007.04.14
申请人 新力股份有限公司 SONY CORPORATION 日本 发明人 吉川良一
分类号 主分类号
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种运动感测器,其包括:一下基板,其具有一第一电极区段;一上基板,其具有一第二电极区段;介于该下基板与上基板之间之一振动器,其系由一弹性梁区段可移动地支撑,该振动器具有由一第一导电层、一绝缘层及一第二导电层组成之一三层结构;介于该下基板与上基板之间之一支撑区段,其系采用该第一导电层、该绝缘层以及该第二导电层形成,并支撑该梁区段;以及介于该下基板与上基板之间之一导电区段,其系与该振动器分离且采用该第一导电层、该绝缘层以及该第二导电层形成,该导电区段与该支撑区段电绝缘,并连接该第一电极区段至该上基板,其中该振动器与导电区段系位于该支撑区段之中且被该支撑区段围绕,由该第一电极区段及该第二电极区段侦测该振动器之位移以侦测角速度或加速度或二者,及提供该第二导电层以便跨立该导电区段及该支撑区段。 ;2.一种运动感测器,其包括:一下基板,其具有一第一电极区段;一上基板,其具有一第二电极区段;介于该下基板与该上基板之间之一中间基板,该中间基板具有由一第一导电层、一绝缘层以及该下基板与该上基板之间的一第二导电体组成之一三层结构;一振动器,其系由该中间基板之一绝缘区段制成;一弹性梁区段,其可移动地支撑该振动器;一支撑区段,其系由该中间基板之另一区段制成且采用该第一导电层、该绝缘层以及该第二导电层形成,该支撑区段经配置以支撑该梁区段;以及一导电区段,其系由该中间基板之另一区段制成且由该第一导电层、该绝缘层以及该第二导电层组成,该导电区段与该支撑区段电绝缘,并经配置以连接该第一电极区段至该上基板,其中该振动器及导电区段系位于该支撑区段之中且被该支撑区段围绕,由该第一电极区段及该第二电极区段侦测该振动器之位移以侦测角速度或加速度或二者,由从该支撑区段延伸的该第二导电层支撑该导电区段,及该第二导电层被形成以便跨立该导电区段及该支撑区段。 ;3.一种制造一运动感测器之方法,该运动感测器有具有(1)一第一电极区段之一下基板、(2)具有一第二电极区段之一上基板、及(3)介于该上基板与下基板之间之一中间基板,该中间基板具有由一第一导电层、一绝缘层及介于该下基板与该上基板之间之一第二导电层组成之一三层结构,该中间基板包括由一弹性梁可移动地支撑之一振动器、用于支撑该梁之一支撑区段、及用于连接该第一电极区段至该上基板,该振动器及导电区段系位于该支撑区段之中且被该支撑区段围绕,藉此采用该第一电极区段及该第二电极区段侦测该振动器之一位移以侦测角速度或加速度或二者,该方法包括下列步骤:图案化该第一导电层以形成彼此分离的该振动器之一下区域、该支撑区段之一下区域以及该导电区段之一下区域;图案化该第二导电层以形成该梁区段之一区域及该振动器之一上区域,并形成该支撑区段之一上区域及该导电区段之一上区域以便彼此电绝缘,且以便该支撑区段之该上区域及该导电区段之该上区域之任一者从该支撑区段之该下区域上面延伸至该导电区段之该下区域上面以便同时跨立该导电区段及该支撑区段;以及将该下基板及该上基板与该中间基板焊接。;图1系本具体实施例之一运动感测器的分解图。;图2系图1所示的运动感测器之部分透明透视图。;图3A系图1所示的运动感测器沿A-A线之断面图,且图3B系图1所示的运动感测器沿B-B线之断面图。;图4系本具体实施例之另一运动感测器沿B-B线的断面图。;图5系使用图1所示的运动感测器之加速度/角速度侦测电路的方块图。;图6系用于说明制造依据一具体实施例之一运动感测器的一程序之图。;图7系用于说明制造依据该具体实施例之一运动感测器的该程序之图。;图8系用于说明制造依据该具体实施例之一运动感测器的该程序之图。;图9系用于说明制造依据该具体实施例之一运动感测器的该程序之图。;图10系用于说明制造依据该具体实施例之一运动感测器的该程序之图。;图11系用于说明制造依据该具体实施例之一运动感测器的该程序之图。;图12系用于说明制造依据该具体实施例之一运动感测器的该程序之图。;图13系用于说明制造依据该具体实施例之一运动感测器的该程序之图。;图14系用于说明制造依据该具体实施例之一运动感测器的该程序之图。;图15系用于说明制造依据该具体实施例之一运动感测器的该程序之图。;图16系用于说明制造依据该具体实施例之一运动感测器的该程序之图。;图17系用于说明制造依据该具体实施例之一运动感测器的该程序之图。;图18系用于说明制造依据该具体实施例之一运动感测器的该程序之图。;图19系用于说明制造依据该具体实施例之一运动感测器的该程序之图。;图20系显示相关技术之一运动感测器的结构之图。;图21A及21B系用于说明侦测相关技术之运动感测器之加速度及角速度的原理之图。;图22A至22E系用于说明制造相关技术之运动感测器的程序之图。
地址 SONY CORPORATION 日本
您可能感兴趣的专利