发明名称 |
划分全晶片图案布局的方法、装置与系统 |
摘要 |
本发明是有关于一种划分全晶片图案布局的方法,包括:提供图案布局,其中此图案布局具有多个特征;检查图案布局以判定特征中多个需划分特征与多个无需划分特征;以第一颜色与第二颜色对需划分特征进行着色步骤;当该着色步骤产生一具有着色冲突的特征时,藉由分解具有着色冲突的特征以及将分解后的具有着色冲突的涂上第一颜色与第二颜色,来解决多个着色冲突;以及以涂上第一颜色的特征来形成第一光罩以及以涂上第二颜色的特征来形成第二光罩。本发明可以有效且高效率地划分全晶片图案布局,可以使独立的布局达到近似的图案密度,还可以将现行曝光机台扩展来印刷下一世代设计图案,更可藉由将这些图案划分成独立的布局来增加每一独立布局的间距。 |
申请公布号 |
CN101241517B |
申请公布日期 |
2010.06.23 |
申请号 |
CN200710129409.3 |
申请日期 |
2007.07.10 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
许照荣;徐金厂;高蔡胜;林本坚 |
分类号 |
G06F17/50(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I |
主分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 |
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 |
代理人 |
寿宁;张华辉 |
主权项 |
一种划分全晶片图案布局的方法,其特征在于该方法至少包括:提供该图案布局,其中该图案布局具有多个特征;以一设计规则检查标准检查该图案布局,以判定上述特征中多个需划分特征与多个无需划分特征;以一第一颜色与一第二颜色对上述需划分特征进行一着色步骤;当该着色步骤产生一具有着色冲突的特征时,藉由分解该具有着色冲突的特征以及将分解后的该具有着色冲突的特征涂上该第一颜色与该第二颜色,来解决多个着色冲突;以及以涂上该第一颜色的上述特征来形成一第一光罩以及以涂上该第二颜色的上述特征来形成一第二光罩。 |
地址 |
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |