用于半导体工作件处理反应器的气体分布装置及其反应器

摘要

本发明揭示一种气体分布装置，包括反应气体供应板、至少一反应气体分布板以及反应气体传送面板，其中反应气体供应板与至少第一种及第二种反应气体相连通；反应气体分布板与反应气体供应板相连接，并使第一种及第二种反应气体中之至少一种在反应气体分布板中获得均匀地分布扩散；反应气体传送面板与反应气体分布板相连接；在第一种及第二种反应气体分别经过反应气体供应板、反应气体分布板及反应气体传送面板的过程中，第一种及第二种反应气体一直保持隔离，最后以均匀分布方式逸出反应气体传送面板。本发明之气体分布装置可以有效改良沈积于半导体工作件上之薄膜效能。本发明亦揭示一种使用该气体分布装置之半导体工作件处理反应器。

主权项

一种气体分布装置，包括：反应气体供应板，其至少与第一种及第二种反应气体相连通；至少一反应气体分布板，其与该反应气体供应板相连接，并使该第一种及第二种反应气体中之至少一种在该反应气体分布板中获得大体上均匀地分布扩散；以及反应气体传送面板，其与该反应气体分布板相连接，其中，在该第一种及第二种反应气体分别经过该反应气体供应板、反应气体分布板及反应气体传送面板的过程中，第一种及第二种反应气体一直保持隔离，最后以一种大体上均匀分布方式逸出该反应气体传送面板。